发明专利 已授权

一种基于应变硅技术的铁电场效应晶体管及其制备方法

📄 申请号:CN202510047982.8 📄 发布日:2026/05/07

著录项目信息

申请日
2025-01-13
公开号
CN119907268B
公开日
2025-10-31
申请人
西安石油大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路, 非易失性存储器, 逻辑器件, 低功耗电子器件, 传感器

摘要

本发明公开了一种基于应变硅技术的铁电场效应晶体管及其制备方法,该铁电场效应晶体管包括:第一掺杂类型的Si衬底;第二掺杂类型的漏区和源区,位于Si衬底的两端内,且其上表面均与Si衬底的上表面齐平;SiO2绝缘层,位于Si衬底上,且与漏区和源区接触;HZO铁电介质层,位于SiO2绝缘层上;栅电极,位于HZO铁电介质层上;源电极和漏电极,分别位于部分漏区和部分源区上;SiN层,位于剩余部分的漏区、剩余部分的源区、栅电极、源电极和漏电极上,以及SiO2绝缘层、HZO铁电介质层、栅电极、源电极和漏电极的侧壁上。本发明可以进一步提高FeFET铁电特性以及存储能力。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (H10D30_60)

议价
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