发明专利已授权

一种磁场阵列工作台系统及面曝光3D打印设备及方法

📄 申请号：CN202010661719.5 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2020-07-10

公开号

CN111976133A

公开日

2020-11-24

申请人

西安理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B29C64_129

IPC 分类号

B29C64_129 , B29C64_245 , B29C64_255 , B29C64_314 , B33Y10_00 , B33Y30_00 , B33Y40_10 ,

技术画像

所属领域

工作台增材制造 3D打印磁场调控工作台

应用场景

3D打印设备, 光固化快速成型, 智能制造, 工业制造

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摘要

本发明公开的一种磁场阵列工作台系统，包括有工作台上安装板，工作台上安装板的上表面设置有工作台转接头，工作台上安装板下方设置有工作台下安装板，工作台下安装板的下表面设置有工作台底部板；工作台下安装板的上表面设置有安装孔单元，安装孔单元内安装有磁场阵列单元；连接后的工作台上安装板与工作台下安装板之间形成空腔，空腔容纳有磁场阵列单元，空腔内还设置有磁场阵列驱动电路，磁场阵列驱动电路位于磁场阵列单元上方并与磁场阵列单元通过导线连接。该工作台系统解决了现有技术中存在的只有统一磁场，不能改变曝光面内的磁场局部分布的问题。还提供了一种面曝光3D打印设备及一种3D打印数字材料方法。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20220329

✅ 授权

20201211

?? 实质审查的生效：

20201124

📄 公开

点阵结构电容器件的多材料面曝光3D打印方法

当前第 / 件

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