发明专利 已授权

一种模型自适应变形方法及系统

📄 申请号:CN202010443262.0 📄 发布日:2026/06/23

著录项目信息

申请日
2020-05-22
公开号
CN111640056B
公开日
2023-04-11
申请人
构范(厦门)信息技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

工业设计, 虚拟现实, 数字孪生, 动画制作, 医学图像处理

摘要

本发明提供了计算机图形学领域的一种模型自适应变形方法及系统,方法包括:步骤S10、创建待变形模型的第一TOPO结构,选取第一特征点;参考变形模型预先设定第二TOPO结构、第二特征点、第二变形极值;步骤S20、对第一TOPO结构进行缩放;步骤S30、计算缩放后的坐标映射关系;步骤S40、对第二变形极值映射生成第一变形极值;基于坐标映射关系、第一变形极值、第二TOPO结构对第一TOPO结构进行变形,生成第三TOPO结构;步骤S50、对第三TOPO结构进行过渡处理,生成第四TOPO结构;步骤S60、基于第四TOPO结构、第二TOPO结构、待变形模型、参考变形模型、坐标映射关系生成变形模型。本发明的优点在于:实现不同TOPO结构模型间的相互转化映射,对模型资源进行复用。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN111640056B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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