实用新型 已授权

一种水晶抛光机用清洗装置

📄 申请号:CN202120939317.7 📄 发布日:2026/04/02

著录项目信息

申请日
2021-04-30
公开号
CN214771279U
公开日
2021-11-19
申请人
金华市棋洲水晶有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

水晶加工, 光学元件抛光, 珠宝制造, 精密清洗

摘要

本实用新型提供了一种水晶抛光机用清洗装置,属于研磨抛光设备技术领域。它解决了现有的研抛机人工上下料存在安全隐患工作效率低下等问题。本实用新型设置在研抛机的机架上,研抛机设有三个下研磨盘对应研抛机上的研磨位、上料位、下料位,三个下研磨盘能依次转动至与上研磨盘对应的研磨位,清洗装置设置在下料位上,它包括吸尘罩、吹屑装置和吸尘装置,吸尘罩架设在下料位的上方,吹屑装置固定设置在吸尘罩内用于吹尘,吸尘装置与吸尘罩固连用于吸尘。本实用新型的优点在于工件研磨完成后,研磨位的下研磨盘和工件转动至下料位,工件转动至吸尘罩内,工件表面的浮尘被吹起并能被吸入吸尘管内,消除了安全隐患,大大提高了工作效率。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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