发明专利 已授权

一种基于三维信息对二维晶界缺失填补的方法

📄 申请号:CN202510096009.5 📄 发布日:2025/11/17

著录项目信息

申请日
2025-01-22
公开号
CN119559097A
公开日
2025-03-04
申请人
河北工程大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

材料科学研究, 金属材料组织分析, 半导体材料检测, 显微图像处理, 晶体材料分析

摘要

基于三维信息二维晶界填补方法,先通过高分辨率二维成像技术采集图像并进行基准配准,确保空间信息的精准关联。在手绘完善首层金相图晶界后,对图像进行灰度化、增强、滤波等预处理操作。利用特定函数和公式去除噪点、二值化,并用专业软件细化晶界。通过设定阈值进行晶粒腐蚀获取中心标记点,八方位追踪计算相邻晶粒比例参数。对首层金相图晶粒边缘检测并缩放,用专用程序填补第二层晶粒,直至输出完整金相图。此方法还结合了三维重建技术验证填补结果,并优化算法。该技术有效提升晶体材料结构完整性与性能,提高晶界重建精度,增强材料性能预测可靠性,降低实验和计算成本,提升数据处理效率,适用于多种材料,为材料微观研究与应用开辟新途径。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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