发明专利已授权

基于光场重采样的集成成像二次成像法

📄 申请号：CN201910185949.6 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-03-12

公开号

CN110099270B

公开日

2020-12-04

申请人

肖礼全

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H04N13_275

IPC 分类号

H04N13_275 , H04N13_305 ,

技术画像

所属领域

光场成像光场成像集成成像计算成像

应用场景

三维显示, 虚拟现实, 增强现实, 光场相机, 近眼显示

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摘要

本发明提出基于光场重采样的集成成像二次成像法，该方法包含立体匹配、3D物点重构和光场重采样三个过程，立体匹配过程寻找到同一3D物点在拍摄微图像阵列中的同名点，3D物点重构过程根据同名点的像素移位和拍摄透镜阵列以及拍摄微图像阵列参数计算出3D物点的真实三维坐标，光场重采样过程将重构的3D物点视为朗伯光源，发出各向均匀的光场信息，由显示透镜阵列对光场信息进行重采样，获得理想的显示微图像阵列。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250812

?? 专利权的转移：

20201204

✅ 授权

20201201

⏳ 著录事项变更：

20190917

?? 实质审查的生效：

20190806

📄 公开

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