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| 专利/申请号： | CN201910185949.6 | 专利名称： | 基于光场重采样的集成成像二次成像法 |
| 申请日： | 2019-03-12 | 申请/专利权人 | 成都工业学院 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 四川省成都市郫都区中信大道二段1号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | H04N13/275 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2020-12-04 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN110099270B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 14 | 所属领域： | 光学仪器专利转让搜索 |
应用场景：增强现实(AR)显示设备;医学影像三维重构;工业检测中的多视角分析;安防监控中的深度感知优化;虚拟现实(VR)内容生成
摘 要：本发明提出基于光场重采样的集成成像二次成像法，该方法包含立体匹配、3D物点重构和光场重采样三个过程，立体匹配过程寻找到同一3D物点在拍摄微图像阵列中的同名点，3D物点重构过程根据同名点的像素移位和拍摄透镜阵列以及拍摄微图像阵列参数计算出3D物点的真实三维坐标，光场重采样过程将重构的3D物点视为朗伯光源，发出各向均匀的光场信息，由显示透镜阵列对光场信息进行重采样，获得理想的显示微图像阵列。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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