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摘 要:本实用新型公开了一种半导体晶体生长炉,涉及半导体晶体生长炉技术领域。本实用新型包括生长炉本体,所述生长炉本体内部上侧的右方开设有制冷循环腔,所述制冷循环腔内壁的右侧开设有制冷片腔,所述生长炉本体内部的左方开设有电泵腔,本实用新型通过设置制冷结构,能够保证设备的循环制冷效果,避免了传统的半导体晶体生长炉内部没有循环结构,导致设备的散热性能差的问题,增加了设备的散热效果,避免了传统的设备在使用过程中,可能会发生过热现象,甚至可能损坏设备的内部结构的问题,保证了设备制造产品的质量,提高了设备的使用效率,保证了设备使用过程中的稳定性和安全性,增加了设备的使用年限,极大地提高了设备的使用效果。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202420077979.1 | 专利名称: | 一种半导体晶体生长炉 |
申请日: | 2024-01-12 | 申请/专利权人 | 上海德硅凯氟光电科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 上海市嘉定区南翔镇翔江公路485号3幢 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B15/00搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2025-01-14 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN222349175U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2025/01/14 | 授权 |