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| 专利/申请号： | CN202321702734.5 | 专利名称： | 一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置 |
| 申请日： | 2023-07-01 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | C30B15/00 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 27 | 所属领域： | 半导体制造设备 单晶硅生长技术专利转让搜索 |
应用场景：单晶炉副室清洁维护;光伏或半导体产业中的单晶硅生产流程
摘 要：本实用新型公开了一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，涉及单晶炉副室清洁技术领域，包括连接座，该连接座上均匀设有四个内槽；连接座的四个内槽进插接有伸缩件，且四个伸缩件远离连接座的一端均套接有清洁布；连接座的一侧固定连接有丝杆，该丝杆的另一端与电机的输出轴固定连接；电机带动四个伸缩件旋转下降，此时伸缩件上套接的清洁布会对单晶炉副室的内壁进行打磨，且清洁布是以旋转的方式进行清理，能够将单晶炉副室的内壁进行完整清理，不会出现遗漏的地方，四个伸缩件通过拧动螺丝能够改变长度，根据需要清理的单晶炉副室的内径来调节四个伸缩件的长度，让本装置能够对任意直径的单晶炉副室进行清理，增加了本装置的适用范围。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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