发明专利 已授权

一种单晶炉循环水冷装置

📄 申请号:CN202411517277.1 📄 发布日:2025/12/18

著录项目信息

申请日
2024-10-29
公开号
CN119465369A
公开日
2025-02-18
申请人
无锡中斯盾科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

单晶硅生长, 半导体制造, 光伏硅片生产, 晶体生长设备, 工业炉冷却

摘要

本发明公开了一种单晶炉循环水冷装置,现提出如下方案,其包括操作台,包括安置柜,所述安置柜的底部设有底座,所述安置柜上安装有主体机构,所述安置柜和主体机构的内部都设有置料机构,所述主体机构上设有水冷机构;本发明通过设置水冷机构,通过相应的电机丝杆传动组件,方便驱动通风罩移动至合适部位,接着,朝液冷腔中通入水冷液,方便对装置产生的热量进行吸收发散,然后将进风头同鼓风机相接,方便将风通入通风罩内部的通槽和环槽,接着进入各个喷头再喷出,对加工过程中产生的热量进行辅助发散,从而令散热更加均匀,进而削弱了温度梯度和热应力,避免了晶体生长速率和生长方向受到较大影响,使得晶体生长更加均匀,保证了产品质量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20250829
✅ 授权
20250307
?? 实质审查的生效 :
20250218
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (C30B15_00)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:115 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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