摘要
本发明涉及陶瓷基板技术领域,具体涉及一种应用于陶瓷基板的化学镍金工艺,包括如下步骤:步骤一:首先在陶瓷基板上制作线路,陶瓷基板沉积金属层,通过刻蚀得到具有连通线路的陶瓷基板;步骤二:采用光刻胶涂敷在陶瓷基板上,选用线路配合的模板进行光固化;步骤三:通过清洗去除陶瓷基板上多余的光刻胶,形成具有线路掩膜的镀镍基板;步骤四:通过研磨祛除多余的光刻胶,并得到具有一定粗糙度的金属面进行电镀镍金;步骤五:电镀作为镍靶材的钯合金,钯合金中掺入质量比0.2%‑0.4%的稀土元素;步骤六:激发钯合金,在钯合金外进行化学镀镍,通过还原渡镍液中的氧化镍在金属面上形成镍镀层;步骤七:去除覆盖的光刻胶以及多余的镍层。