发明专利已授权

用于指状结构鳍式场效应晶体管的电性解析版图

📄 申请号：CN202010821446.6 📄 发布日：2026/06/29

著录项目信息

申请日

2020-08-14

公开号

CN111916444B

公开日

2022-11-25

申请人

泉芯集成电路制造(济南)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L27_02

IPC 分类号

H01L27_02 , H01L27_088 ,

技术画像

所属领域

半导体器件半导体器件集成电路版图设计鳍式场效应晶体管

应用场景

集成电路设计, 半导体制造, 芯片测试, 电子设计自动化, 先进制程工艺开发

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摘要

本发明提供了一种用于指状结构鳍式场效应晶体管的电性解析版图，涉及集成电路技术领域。电性解析版图包括第一版图和第二版图，第一版图为指状结构鳍式场效应晶体管，指状结构鳍式场效应晶体管的栅极、源极、漏极和基底均为并联，第二版图为用于解析指状结构鳍式场效应晶体管的版图，第二版图的至少部分的栅极、源极或漏极具有个别的金属线连接，第二版图的基底共用，第二版图的至少部分的晶体管可被单独量测，这样，可以将原先要解析的指状结构鳍式场效应晶体管的个别晶体管的电学行为进行拆解和组合，可以完全地解析指状结构鳍式场效应晶体管的电学行为。此版图还可用于校验鳍式场效应晶体管的电路模型，以及其版图效应的加成性是否准确。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20221125

✅ 授权

20201127

?? 实质审查的生效：

20201110

📄 公开

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