光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机设备

摘     要：本申请提供一种光学邻近矫正模型构建方法、装置及计算机设备，涉及半导体制造技术领域。本申请通过对包括有待校验掩膜图案及对应的至少一种基础掩膜图案的待测掩膜板图案进行真实曝光试验及曝光模拟仿真，而后根据得到的基础掩膜图案的第一曝光图案尺寸信息、待校验掩膜图案的第二曝光图案轮廓信息，及待校验掩膜图案的仿真曝光图案轮廓信息，将待校验掩膜图案在真实曝光与光学仿真下分别对应的整体曝光轮廓状况结合到目标电路图案的光学邻近矫正模型构建过程中，使最终得到的模型直接具有较高的矫正预测精准度，无需反复调整待校验掩膜图案进行真实曝光试验来改善模型的矫正预测精准度，从而减少模型构建成本及模型构建时长。

著 录 项： 

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期

  法律信息

  备注