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摘 要:本发明公开了一种金属离子源及其应用和使用方法,涉及表面工程技术领域。其包括:用作阴极的内芯、用作阳极的外芯和屏蔽管。本发明提供的金属离子源,具有较高的溅射效率,能在管筒状零件内沿轴向均匀地供给金属离子,便于在内表面得到均匀的表面改性层;本发明通过在内芯的双侧开通孔,使得金属离子溅射面积更大,溅射效率更高。将外芯单独设置到屏蔽管外,有利于实现金属离子源整体结构的小型化。从而对更小型的管状工件进行内表面改性,应用范围更广,同时极大程度地简化了结构,提高了可靠性。此外还提供了金属离子源的使用方法和应用。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010491942.X | 专利名称: | 一种金属离子源及其应用和使用方法1 |
申请日: | 2020-06-02 | 申请/专利权人 | 西华大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 四川省成都市金牛区土桥金周路999号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01J37/32搜分类 离子源搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |