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多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2023/09/04

摘     要:一种多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉。工艺包括将SiHCl3与H2混合,从底部进气口喷入从出气口排出;还原炉外壳夹套中通以冷却水;硅棒温度1050~1150℃,器内压力为0.5~0.7MPa;SiHCl3还原后的硅沉积在硅棒上等步骤。混合气体从还原炉的底部进气口喷入,从其顶部的出气口排出。还原炉包括底座、外壳、多对电极、细硅棒、进气口和出气口。外壳带有夹套,夹套上固定着进、出水口。进气口固定在底部,出气口固定在顶部封头上。它可避免上升气柱在底部的扩散,使之与硅棒充分接触。顶部不存在流体死区,硅棒上部硅沉积速度高。气体温度便于调控。加强了炉内气体湍动强化了传质,气体在炉内的停留时间长。大大提高了一次性转换率。

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专利/申请号: CN200810249626.0 复制 专利名称: 多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉 复制
申请日: 2008-12-25 申请/专利权人 青岛科技大学,化学工业第二设计院宁波工程有限公司
专利类型: 发明 地址: 山东省青岛市四方区郑州路53号
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: C30B29/06搜分类   工艺 硅 港口搜索
公开/公告日: 转让价格: 面议
公开/公告号: 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

专利交易流程

  • 1. 买家选定所需专利,确认国家手续办理方,下单,确认交易合同;
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    5. 办理国家手续方提交办理官方手续,国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》;
    6. 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》;
    7. 平台把交易款项支付给卖家,至此专利转让合同完成。

专利转让材料

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    专利转让委托书(需盖公章)一式两份 专利转让委托书(需签字)一式两份
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    解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请)
    专利转让协议(需盖公章)一式两份 专利转让协议(需签字)一式两份
    专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
    专利证原件(若授权下证) 专利证原件(若授权下证)

专利法律信息

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