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摘 要:本发明属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域,具体涉及一种中心进气的调制脉冲电弧离子镀装置,包括阴极盖和阴极座,所述阴极盖和阴极座相连接形成阴极组件,所述阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部,所述靶材安装部上连接有靶材,所述靶材中心处设有第一通孔,所述阴极座上设有连通第一通孔的第二通孔,所述阴极盖上设有连通第二通孔的第三通孔,所述第一通孔、第二通孔、第三通孔形成进气管路。本发明采用中心通气实现工艺气体从靶材中心进入,增大沉积化合物相的能量,优化涂层结构,降低弧光放电的熔池大小,抑制大颗粒的产生。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010736213.6 | 专利名称: | 一种中心进气的调制电弧离子镀装置 |
申请日: | 2020-07-28 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/32搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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日期 | 法律信息 | 备注 |