摘 要:本发明的公开了一种单层二硫化钼薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1,通过使用真空管式炉设置三个温区,将硫粉置于一温区;将三氧化钼粉置于二温区;将衬底放在带盖的坩埚底部,然后将坩埚放置在三温区;步骤2,向真空管式炉中通载气;步骤3,将二温区加热到150~350℃,将三温区加热到150~350℃;步骤4,将二温区加热到580~800℃,得气态的MoO3-x,其中0 著 录 项:
专利/申请号:
CN201710382686.9
专利名称:
一种单层二硫化钼薄膜的制备方法
申请日:
2017-05-26
申请/专利权人
西安理工大学
专利类型:
发明
地址:
陕西省西安市金花南路5号
专利状态:
已下证
查询审查信息
分类号:
C23C16/30搜分类
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公开/公告日:
2017-10-27
转让价格:
面议
公开/公告号:
CN107299333A
交易状态:
等待洽谈
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日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/01/14 | 授权 | |
2017/11/24 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C23C 16/30 专利申请号: 201710382686.9 申请日: 2017.05.26 |
2017/10/27 | 公开 |