发明专利已授权

一种提高电解铜箔力学性能的方法及其所用的添加剂

📄 申请号：CN202110636882.0 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2021-06-08

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C25D1_04

IPC 分类号

C25D1_04 , C30B7_12 , C30B29_02 ,

技术画像

所属领域

电沉积技术电沉积技术电解铜箔电解液添加剂

应用场景

锂离子电池集流体, 电子电路基材, 储能器件, 电解铜箔制造

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摘要

本发明涉及一种提高电解铜箔力学性能的方法及其所用的添加剂，属于锂离子电池领域，为解决现有的电解铜箔存在力学性能较弱，其拉伸性能会随着其厚度减小而降低，并且针对性强化电解铜箔力学性能的工艺普遍存在成本高昂、工艺难度大等问题，本发明提供了一种提高电解铜箔力学性能的方法，在电解铜箔制备过程中，控制铜箔中晶粒晶体的晶面生长趋势，促进铜晶粒的(220)晶面生长，增大铜晶粒在(220)晶面上的织构系数，和/或增大铜沉积过程中的阴极极化、细化铜晶粒。本发明的方法能够有效降低成本、减小污染；改性处理方式简洁高效，无序额外的工序；能够诱导铜晶粒的生长取向，增强(220)晶面的取向；同时能够实现晶粒细化，强化铜箔的力学性能。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种用于盲孔抛光的旋转抛光装置及其方法

当前第 / 件

一种提升过程分布式输出预测的动态数据校正方法

同领域国内专利 · IPC: (C25D1_04)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：11 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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