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一种基于轨迹点和驻留时间优化的剪切增稠抛光方法

Name: 一种基于轨迹点和驻留时间优化的剪切增稠抛光方法
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2024117950132
Availability: InStock

📄 申请号：CN202411795013.2 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2024-12-09

公开号

CN119260485A

公开日

2025-01-07

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B41_06 , B24B29_02 , B24B49_02 , B24B57_02 , B24B49_00 , B25J11_00 ,

技术画像

所属领域

剪切增稠抛光剪切增稠抛光精密加工工艺轨迹规划与参数优化

应用场景

精密制造, 光学元件加工, 半导体制造, 模具加工, 表面光整加工

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摘要

本发明公开了一种基于轨迹点和驻留时间优化的剪切增稠抛光方法，设定基于剪切增稠抛光装置的抛光工艺参数；构建剪切增稠抛光的空间材料去除足迹预测模型，该预测模型包括影响区域尺寸方程和材料去除量方程；测量待处理工件表面形貌得到测量点矩阵，并利用轨迹点生成算法得到抛光区域内的全部轨迹点；利用预测模型计算每个轨迹点的影响区域尺寸，以相邻轨迹点相接且不发生干涉为目标，优化得到轨迹点进给矩阵；对每个轨迹点进行驻留时间迭代，得到驻留时间矩阵；在剪切增稠抛光装置上使用轨迹点进给矩阵与驻留时间矩阵，对待处理工件进行抛光。本发明优化了轨迹点和驻留时间矩阵，提高了抛光精度、质量和效率。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN119260485A

购买这项专利需要经过哪些流程？

平台提供担保交易、全程代办转让手续。买家可委托平台代购，平台协助完成权属尽调、合同签署、国家知识产权局著录项目变更等流程。

该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：34 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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📊 出价记录 (3条)

王**¥-10万

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