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发明专利
已授权
一种基于EPI的光场图像超分辨的方法
📄 申请号:CN201910764022.8
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2019-08-19
申请人
西安理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G06T3_40
IPC 分类号
G06T3_40
,
G06T7_557
,
技术画像
所属领域
光场成像
光场成像
图像超分辨
计算成像
应用场景
计算摄影, 虚拟现实, 医学成像, 遥感图像处理, 消费电子
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摘要
本发明公开了一种基于EPI的光场图像超分辨的方法,包括以下步骤:1、将光场原始图像和光场相机参数读入光场相机中;2、对原始图像进行解码得到四维的光场矩阵;3、提取四维光场矩阵的位置信息中坐标方向的像素点得到子孔径图像;4、将子孔径图像按行循环,依次提取每幅图像相同高度值的像素点,得到EPI图像;5、对步骤4得到的每幅EPI图像进行超分辨;6、对经过超分辨的EPI图像进行去模糊操作,再将每一个像素点还原到子孔径图像上。本发明通过子孔径图像提取EPI切片,通过对EPI切片进行超分辨更加有利于恢复原始图像的局部细节部分,从而在不提高硬件配置的前提下提高光场图像空间分辨率和角度分辨率。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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