发明专利已授权

一种磺酸基修饰ZIF-67涂覆隔膜及其制备方法和应用

📄 申请号：CN202610091197.7 📄 发布日：2026/06/16

著录项目信息

申请日

2026-01-22

公开号

CN121566056B

公开日

2026-05-12

申请人

浙江理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01M50_449

IPC 分类号

H01M50_449 , H01M50_497 , H01M50_491 , H01M50_403 , H01M50_489 , H01M10_052 , C09D7_65 , C08G83_00 ,

技术画像

所属领域

电池隔膜电池隔膜金属有机框架材料功能化改性

应用场景

锂离子电池, 储能系统, 新能源汽车, 电化学器件

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摘要

本发明涉及一种磺酸基修饰ZIF‑67涂覆隔膜及其制备方法和应用，属于锂电池技术领域。包括多孔基膜和涂覆于多孔基膜一侧或两侧的改性涂层，所述改性涂层包含磺酸基功能化的ZIF‑67纳米颗粒和粘结剂，磺酸基功能化的ZIF‑67纳米颗粒是由钴源、2‑甲基咪唑配体以及含磺酸基团的咪唑类辅助配体通过配位自组装形成的金属有机框架材料。本发明通过原位配位自组装将带有磺酸基团的咪唑类配体引入ZIF‑67骨架，利用ZIF‑67的规则孔道实现锂离子通量的均匀化，同时利用磺酸基团的静电诱导作用促进阴离子分解，提高锂离子迁移数。该隔膜能有效抑制锂枝晶生长，在NCM811/Li金属全电池、Li‑Li对称电池及Li‑Cu半电池中均表现出优异的循环稳定性和倍率性能。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

可防止信息泄露的小尺寸交指电容加载近场传感节点天线

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