发明专利 已授权

一种硅片检测用真空吸盘装置

📄 申请号:CN202310588362.6 📄 发布日:2026/06/30

著录项目信息

申请日
2023-05-23
公开号
CN116553175B
公开日
2026-02-13
申请人
山西东明光伏科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆检测, 硅片加工, 半导体设备, 芯片制造

摘要

本发明公开了一种硅片检测用真空吸盘装置,涉及硅片检测加工的技术领域,包括用于检测硅片厚度的检测仪、安装架和传动组件,所述安装架上设有若干个定位板,所述定位板上均匀设有用于吸附在硅片下表面的第一负压吸盘,所述检测仪位于定位板的一侧,所述安装架和传动组件之间形成转运路径,所述转运路径上移动设有转运架,所述转运架位于第一负压吸盘的上方,所述转运架上设有升降板,所述升降板升降设于转运架上,所述升降板的底部设有用于吸附在硅片上表面的第二负压吸盘,所述第二负压吸盘的水平投影与第一负压吸盘的水平投影相互重合。本发明便于无损转运检测后的硅片。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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