发明专利 已授权

一种磁致伸缩微位移平台

📄 申请号:CN202011452096.7 📄 发布日:2026/07/22

著录项目信息

申请日
2020-12-10
公开号
CN112564543B
公开日
2025-05-27
申请人
南昌工程学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密定位, 微纳制造, 光学调整, 半导体加工, 超精密测量

摘要

本发明涉及一种磁致伸缩微位移平台,包括移动平台和外壳,外壳设有滑块,两个滑块均设有磁致伸缩棒,两个磁致伸缩棒之间设有连接块,移动平台设置在连接块上,磁致伸缩棒设有第一线圈,两个滑块均设有固定机构,固定机构包括铁制圆筒,铁制圆筒设有矩形槽,矩形槽设有圆槽,圆槽设有弹簧和限位板,限位板设有矩形柱,矩形柱设有衔铁板,衔铁板设有第一锯齿,铁制圆筒设有第二线圈,外壳设有条形板,条形板设有第二锯齿;该磁致伸缩微位移平台能够精确控制移动平台前后移动,以满足使用需要,由于移动平台的前后移动与摩擦系数无关,所以不会受到摩擦系数影响,这样磁致伸缩微位移平台在长期使用后,移动平台依然能够精确位移。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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