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摘 要:本实用新型涉及镀膜设备技术领域,特别涉及真空电弧离子镀膜源装置;真空电弧离子镀膜源装置,包括支撑杆、阴极靶材、永磁组件、测距组件和驱动组件,所述支撑杆的一端固接阴极靶材,另一端固接驱动组件,所述永磁组件上支撑杆上滑动连接,所述测距组件包括超声波发生器和超声波接收器,所述测距组件用于测量永磁组件与阴极靶材之间的距离,所述超声波发生器固接于阴极靶材上,所述超声波接收器设置于永磁组件上,所述驱动组件驱动永磁组件进行靠近或远离阴极靶材移动。本实用新型的目的在于提供真空电弧离子镀膜源装置,该装置能够在阴极靶材部逐渐消耗,距离磁场发生部变化时,保持阴极靶材部表面的磁场不变。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202022535142.1 | 专利名称: | 真空电弧离子镀膜源装置 |
申请日: | 2020-11-05 | 申请/专利权人 | 南京迪奥赛真空科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 江苏省南京市秦淮区永智路6号白下高新技术产业园区四号楼501室 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/54搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2021-06-22 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN213507183U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |