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24小时咨询热线著 录 项 目：
| 专利/申请号： | CN202110470835.3 | 专利名称： | 一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法 |
| 申请日： | 2021-04-29 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B81C1/00 分类检索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量： | 107 | 所属领域： | 其他专利转让搜索 |
摘 要：本发明公开了一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法，属于半导体学中的微观结构技术领域。包括：将2.5D微纳结构的高度分成2N个等级，建立对应的N张二元曝光版图，其中N＞I；再获取所述N张二元曝光版图的并集，建立一个额外的补偿版图；在硅片上旋涂光刻胶后进行N+1次分层曝光，获取包含2N种高度的光刻胶层；以光刻胶层作掩膜进行干法刻蚀制备纳米压印模板，通过软膜热固化纳米压印，再加上紫外固化纳米压印的二次转印即可批量生产。本发明的纳米压印模板图形精度高，具有2N个不同高度，且通过软膜转印、纳米压印、干法刻蚀制备的微纳结构效率高、成品率高、尺寸精确。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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