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摘 要:本发明公开了一种通过设置温度梯度制备自支撑氧化镓体块单晶的方法,将籽晶固定在HVPE生长系统的衬底并置于高温生长区,籽晶与NH3出气口距离为5~20cm,控制籽晶与氨气出气口的温度梯度;升温至所需温度,通入氯化氢与Ga反应生成氯化镓,运输至高温生长区,与氨气反应外延生长GaN,温度梯度为‑2~2℃,反应1~2h后停止通氯化氢,调整温度梯度为‑3~3℃/cm,高温退火,继续通氯化氢,GaN继续外延生长1‑2 h,调整温度梯度为‑3‑3℃/cm,保温1~2h,再次通氯化氢,GaN外延生长2~48h,关闭氯化氢,系统降至室温。本发明通过多温区控温形成不同温度梯度生长的方法,改变高温生长区的温度梯度,改变了生长GaN单晶的表面形貌及晶体质量,节省时间和生产成本,获得了自支撑GaN体块单晶。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202210931301.0 | 专利名称: | 一种通过设置温度梯度制备自支撑氧化镓体块单晶的方法 |
申请日: | 2022-08-04 | 申请/专利权人 | 齐鲁工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 山东省济南市长清区大学路3501号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B29/16搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2022-09-30 | 转让价格: | 28000.0元 |
公开/公告号: | CN115125617A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |