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发明专利
已授权
一种非易失性可重置双向开关装置及其制造方法
📄 申请号:CN202110733802.3
📄 发布日:2025/09/22
著录项目信息
申请日
2021-06-30
公开号
CN113471205B
公开日
2023-11-03
申请人
沈阳工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H10B41_30
IPC 分类号
H10B41_30
,
H10B43_30
,
技术画像
所属领域
双向开关器件
双向开关器件
非易失性存储器件
半导体制造工艺
应用场景
集成电路, 存储芯片, 逻辑控制器件, 可编程逻辑器件
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摘要
本发明公开了一种非易失性可重置双向开关装置,包含SOI晶圆的硅衬底,SOI晶圆的硅衬底上方为SOI晶圆的衬底绝缘层,SOI晶圆的衬底绝缘层的上方为半导体薄膜、双括号非易失性电荷存储层的部分区域、半导体隧穿层a、半导体隧穿层b、可互换电极内嵌区a、可互换电极内嵌区b、栅电极绝缘层的部分区域、栅电极、防电荷流失用绝缘层和绝缘介质阻挡层的部分区域。本发明所述器件为一种非易失性可重置双向开关装置及其制造方法,装置具有左右对称结构,可互换电极a和可互换电极b可彼此互换,实现本发明的双向开关功能。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种面膜荧光剂检测装置
当前第 / 件
低功耗双层阻挡接触式双向异或非门集成电路及制造方法
同领域国内专利 · IPC: (H10B41_30)
H10B41_30
覆盖
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📋 交易方式:
委托待转让
📌 交易状态:
在售
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📋 项目申报:
未申报
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