发明专利 已授权

一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统

📄 申请号:CN201910477046.5 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2019-06-03
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密机械加工, 模具抛光, 医疗器械表面处理, 航空航天零部件加工, 汽车零部件抛光

摘要

本发明公开一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统,该方法为将待抛光平面工件放置在一个静止的过流腔体内,使磨粒流发生空化后进入过流腔体,并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化,导致其受力不均匀而向工件表面发生移动聚集,经空化作用的磨粒流在非均匀电场作用下对待抛光工件的平面进行抛光,达到均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20200911
✅ 授权
20191015
?? 实质审查的生效 :
20190917
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:50 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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