发明专利 已授权

半球谐振子约束流场力流变抛光-调平装备及方法

📄 申请号:CN202410013057.9 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2024-01-04
公开号
CN117644439B
公开日
2026-01-06
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半球谐振陀螺制造, 惯性导航系统, 航空航天精密仪器, 高精度传感器制造

摘要

本发明公开了半球谐振子约束流场力流变抛光‑调平装备及方法;所述抛光‑调平装备包括直线移动平台、清洗干燥装置、力流变约束模块、在位检测装置和液压动力装置;直线移动平台用于调整半球谐振子的位置,且直线移动平台上设有用于装夹半球谐振子的工件主轴;清洗干燥装置用于对抛光后的半球谐振子进行清洗和干燥;力流变约束模块用于对半球谐振子进行抛光,其内部设有两个分别与A磨料缸和B磨料缸相连接的约束流道;在位检测装置用于检测出半球谐振子的不平衡质量和不平衡位置,便于对半球谐振子进行调平修正;液压动力装置包括与液压站相连接的A液压缸和B液压缸;A液压缸和B液压缸分别与A磨料缸和B磨料缸的活塞相连接。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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