发明专利 已授权

一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法

📄 申请号:CN202510211285.1 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2025-02-25
公开号
CN120038601B
公开日
2025-11-18
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

精密制造, 半导体晶圆抛光, 光学元件加工, 模具制造, 航空航天零部件表面处理

摘要

本发明公开了一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法;该平台包括机架、用于夹持和移动工件的工件转移机构、机械流体抛光模块和光催化检测反馈模块。机械流体抛光模块包括两用抛光槽体、机械抛光组件和光催化流体抛光组件。本发明在光催化流体抛光腔室中设置遮光区域,并分别检测遮光区域内外的氧化还原电位,通过求差获得光激发ORP值,并根据调节紫外光强度,使得光激发ORP值维持在理想区间内,保持整个光催化流体抛光流程的高效可靠;由于光激发ORP排除对抛光液中对工件表面氧化贡献微小的原有物质氧化性的影响,故其能够准确衡量因光催化产生的羟基自由基增量,提高本发明中光催化流体抛光流程的控制精准性。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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