专利名称：一种真空蒸发镀膜用冷却装置
申请号：2020220454525
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 半导体制造设备 表面处理工艺
相似专利
发布日：2025/09/17
应用场景：光学薄膜沉积时的基板温控管理;电子元件金属化层的均匀成膜控制;功能性涂层制备过程中的温度稳定性保障
专利名称：一种真空蒸发镀膜装置
申请号：2020220426898
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 材料表面处理 半导体制造设备 光学薄膜沉积
相似专利
发布日：2025/09/17
应用场景：集成电路金属互连层制备;光学镜片增透/反射膜成型;太阳能电池功能层沉积;柔性电子器件导电线路印刷
专利名称：一种真空蒸发镀膜用余热利用装置
申请号：2020220426718
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 能源回收与再利用 工业节能设备
相似专利
发布日：2025/09/17
应用场景：半导体制造中的薄膜沉积工艺余热回收;光学元件表面处理时的热能循环利用;显示面板生产线的能耗优化系统;光伏产业材料制备过程中的废热管理
专利名称：一种具有观察窗的真空镀膜仪
申请号：2024228024222
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 精密仪器制造 材料表面处理
相似专利
发布日：2025/09/15
应用场景：半导体器件生产中的薄膜沉积工艺监控;光学元件镀膜过程可视化质检;科研实验中对真空环境下反应状态的实时观测;工业量产线上涂层均匀性动态检测
专利名称：一种真空镀膜翻转机构
申请号：2023207928148
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 自动化设备 精密机械
相似专利
发布日：2025/09/04
应用场景：半导体制造中的薄膜沉积工艺;光学元件表面处理;新能源电池极片涂层;装饰性镀层生产;材料科学研究实验
专利名称：一种双室磁控溅射真空镀膜机
申请号：2022203978571
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法律状态：已下证
类型：实用新型
关键词：真空镀膜技术 磁控溅射设备 表面处理工程 半导体制造工艺
相似专利
发布日：2025/09/04
应用场景：光学薄膜沉积;电子元器件封装;装饰涂层制备;功能材料改性;新能源电池电极制造
专利名称：一种真空镀膜中样品翻转装置
申请号：2021100314422
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法律状态：已下证
类型：发明
关键词：真空镀膜技术
相似专利
发布日：2025/07/09
摘要： 本发明公开一种真空镀膜中样品翻转装置，包括旋转轴、固定架、转盘、翻转栅条、被动齿轮、主动齿轮和固定转动部，所述旋转轴通过所述固定架与所述转盘固定连接，所述旋转轴的轴线穿过所述转盘中心，所述旋转轴带动所述转盘绕自身轴线旋转，所述翻转栅条设置在所述转盘上，且所述翻转栅条可绕自身轴线转动，一所述翻转栅条的一端固定设置有所述主动齿轮，其余所述翻转栅条的一端固定设置有所述固定齿轮，所述固定转动部可与所述主动齿轮传动连接，所述主动齿轮和相邻的所述固定齿轮啮合连接，相邻所述固定齿轮之间啮合连接；本发明的有益效果是样品在翻转时不需要额外的真空室空间，也不会对有效镀膜面积造成浪费。
专利名称：一种线圈电磁挤压式磁过滤装置
申请号：2021107445877
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法律状态：已下证
类型：发明
关键词：真空镀膜技术
相似专利
发布日：2025/07/09
摘要： 本发明公开了一种线圈电磁挤压式磁过滤装置，属于真空镀膜技术领域，包括电弧阴极、聚焦线圈、安装法兰、偏转室、真空室、偏转挤压组件；所述电弧阴极设置在所述安装法兰上，所述安装法兰与所述偏转室的一端连接，所述偏转室的另一端与所述真空室连通，所述偏转挤压组件设置在所述偏转室与所述真空室的连接处。本发明采用磁挤压的方式，能完成从电源阴极至真空室的等离子体的偏转，完成大颗粒的过滤，使传统磁过滤等离子体非常集中的特点会有所改善，有利于大面积和均匀沉积；并且在完成膜层沉积时，工件转架具有很大的自由设计空间，不被磁控过滤弯管的位置所限制，值得被推广使用。
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