实用新型涉及半导体制造技术领域,公开了一种用于半导体制造的辅助工装,包括工作台,所述工作台的顶部中侧固定连接有定位座,所述定位座的顶端两侧设置有两个契合槽,所述契合槽的内部设置有契合柱,所述契合柱的顶端固定连接有放置体,所述放置体的前端内部开设有放置槽,所述放置体的内部两侧均等距固定连接有多个伸缩杆,所述伸缩杆的顶端固定连接有固定板,所述伸缩杆的外壁设置有弹簧。本实用新型中,通过工作台、定位座、契合槽、契合柱、放置体、伸缩杆、固定板、弹簧和放置槽的配合设置,能够将半导体芯片夹持住,较好的避免了芯片跑动,使得半导体芯片在刻纹中不易产生偏差。
📄 2023224915882
📂 G09F7_20
👤 陕西晶奕芯原科技有限公司
📅 2023-09-14
已申报项目
本发明公开了一种基于石墨的临时键合和解键方法,该方法包括以下步骤:步骤1、提供一载片,在所述载片的正面规则的开一定形状的槽。步骤2、在所述载片的槽中放置石墨。步骤3、将载片正面和器件晶圆上设置键合胶。步骤4、将器件晶圆正面与载片正面进行键合,得到临时晶圆键合对。步骤5、对加工后的临时晶圆键合对,对器件晶圆背面进行加工。步骤6、将器件晶圆正面与载片正面进行解键合,将器件晶圆与载片进行分离。本发明的方法能够直接对键合层加热,实现快速键合,在低温加热下快速进行解键。
📄 2020105001044
📂 H01L21_683
👤 西南大学
📅 2020-06-04
本实用新型公开了一种硅片氧化层去除装置,涉及半导体加工技术领域,包括直角顶板和底部箱体,所述直角顶板安装固定在底部箱体的上端位置上,所述底部箱体的上端左侧设置有氧化浸泡腔,所述底部箱体的上端右侧设置有干燥处理器,所述底部箱体的下端中间设置有支撑放置座,所述直角顶板的顶端中间设置有直线丝杠导轨模组,所述直线丝杠导轨模组的下端设置有升降浸泡收纳框,所述升降浸泡收纳框的下端内侧设置有硅片本体。本实用新型通过升降浸泡收纳框上端直线丝杠导轨模组的左右摆动,使得升降浸泡收纳框下端内侧的硅片本体可以晃动分离产生间隙,这样在浸泡时更加充分全面。
📄 2023217364705
📂 H01L21_311
👤 苏州惠力达半导体材料有限公司
📅 2023-07-04
本实用新型公开一种半导体框架残留黑胶去除装置,包括主体框架箱、排水系统、高压水雾输出系统和传动系统,排水系统包括漏网、漏板、一号废水导出板和二号废水导出板,一号废水导出板和二号废水导出板位于主体框架箱底部的两侧,布置成漏斗形;漏板位于一号废水导出板和二号废水导出板上方,漏网位于漏板上方并且将漏板覆盖;高压水雾输出系统包括喷头、输水管、高压水泵和滑动体,喷头位于漏网上方并且喷头通过输水管与高压水泵相连通,输水管设置于滑动体内,传动系统与滑动体相连,用于驱动滑动体在漏网上方滑动。本实用新型用于贴片二三极管成型后黑胶残留和毛刺去除,减轻后步工序设备的污染和磨损。
📄 2021207117952
📂 B29C45_17
👤 济南鲁晶半导体有限公司
📅 2021-04-08
本发明涉及半导体加工设备技术领域,公开了一种半导体零件加工治具,包括加工台,设置在加工台上表面的立板,设置在立板一侧的横板,以及设置在横板上端的推移组件,横板的外表面上贯穿设置有挤胶机构,加工台的上表面设置有辅助机构和外接机构,加工台的上方设置有放置机构,将半导体产品放在放置槽内部,在完成一个面后,旋转转动杆,使放置板旋转一周,在转动同时,使得电磁板A与电磁板B带上相反磁性,从而使内板下移,内杆随之下移,在转动后,使得电磁板A与电磁板B带上相同磁性,内杆上移,磁吸板与放置板磁性连接,再次完成对放置板的支撑,便于后续的点胶过程,整个过程无需手动翻面,提高效率,也减少工作人员手动接触留下的痕迹。
📄 2021112475815
📂 B05C13_02
👤 南通普祥金属制品有限公司
📅 2021-10-26
本发明提供了一种侦测结构、及STI异常孔洞的侦测方法,基于STI区域位于P型衬底上第一N型掺杂区域和第二N型掺杂区域之间的侦测结构,将栅极和源极浮空,漏极接入预设电压,获取漏电流的第一变化情况;将栅极浮空,源极接地,漏极接入所述预设电压,获取漏电流的第二变化情况;依据第一变化情况和第二变化情况,判断STI区域是否存在异常孔洞。该侦测方法通过在两种上电情况下,分别获取漏电流的变化情况,当STI区域存在异常孔洞时会有额外的漏电流产生,那么漏电流的第二变化情况必然会出现明显的变化,显然通过漏电流的两种变化情况可以判断出STI区域是否存在异常孔洞,且该侦测方法简单,耗时也比较短。
📄 202011456803X
📂 H01L21_66
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-12-10