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摘 要:本申请属于半导体材料技术领域,特别是涉及一种量子阱结构及其生长方法。为了获得高质量的InGaAs量子阱,一般采用GaAsP应变补偿垒层的方法,但会带来超出预期的发光峰。并且就算保持了总应变为零,仍会造成InGaAs/GaAsP界面粗糙化,引发局部微观缺陷,这同样会弱化量子阱的性能。如果直接采用GaAs做势垒层,生长温度的选择成了挑战。本申请提供了一种量子阱结构,包括依次层叠的衬底、缓冲层、下势垒层、势阱层和上势垒层;所述上势垒层包括低温势垒层和高温势垒层,所述势阱层、所述低温势垒层与所述高温势垒层依次层叠。优化低温、高温势垒层的厚度分配和生长温度,提高量子阱材料的生长质量。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010165902.6 | 专利名称: | 一种量子阱结构及其生长方法 |
申请日: | 2020-03-11 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7089 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L31/0352搜分类 生长搜索 |
公开/公告日: | 2020-07-24 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111446313A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |