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摘 要:本发明公开了一种平面轮廓轨迹抗扰动跟踪控制方法。本方法以平面轮廓轨迹跟踪控制状态空间扰动数学模型为基础,通过引入跟踪位置信号的积分变量建立状态空间扰动扩展数学模型,再通过Matlab函数place计算控制器增益矩阵设计状态反馈抗扰动跟踪控制器,进而计算数控机床X轴和Y轴电机的输入电压,实现数控机床对平面轮廓轨迹位置函数sX与sY的高速、高精度的抗扰动跟踪控制。本发明的最重要的特征是直接采用双轴跟踪控制状态空间扰动数学模型设计轮廓轨迹控制器,实现两个主轴电机的同步协调跟踪控制;跟踪控制器只有两个调整参数,在线实施简便、可靠。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201410653663.3 | 专利名称: | 一种平面轮廓轨迹抗扰动跟踪控制方法 |
申请日: | 2014-11-17 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学科技处 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G05B13/04搜分类 跟踪搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2017/06/27 | 授权 | |
2015/05/06 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G05B 13/04 专利申请号: 201410653663.3 申请日: 2014.11.17 |
2015/04/08 | 公开 |