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摘 要:本发明公开了一种用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法,上述相变薄膜材料为多层复合膜结构,由GeTe层和Sb层交替沉积复合而成,将一层GeTe层和一层Sb层作为一个交替周期,后一个交替周期的GeTe层沉积在前一个交替周期的Sb层上方。经试验证实,本发明的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料反射率发生突变的时间约为5.3ns,而单层Ge2Sb2Te5传统相变薄膜材料反射率发生突变的时间约为39ns;说明与传统单层Ge2Sb2Te5相变薄膜材料相比,本发明的相变薄膜材料具有更快的相变速度,从而使得用其制备的相变存储器具有更快的操作速度,有利于提高PCRAM信息读写的速度。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810155240.7 | 专利名称: | 用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法 |
申请日: | 2015-04-27 | 申请/专利权人 | 江苏理工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省常州市钟楼区中吴大道1801号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L45/00搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |