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摘 要:本发明公开了一种增强型MIS结构的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管。这种新结构是在晶体管2DEG所在的高阻GaN层的源端到栅电极部分使用P型掺杂的GaN,于是在栅压为零时,由于P型GaN与2DEG界面处势垒的阻挡作用使得电子无法到达源电极实现器件导通,器件处于关断状态;当栅极加正电压时,栅极下的2DEG浓度提高,使其能带高度下降,随着电压进一步增大,2DEG能带高度进一步下降,2DEG与P型GaN的势垒厚度也不断减小,直到在漏源电压的作用下发生遂穿,实现器件导通。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201410369885.2 | 专利名称: | 一种增强型MIS结构AlGaN/GaN异质结场效应晶体管 |
申请日: | 2014-07-30 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/778搜分类 L LED芯片 场效应晶体管搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |