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摘 要:本发明公开了一种栅控垂直双扩散金属-氧化物半导体场效应晶体管,把晶体管的沟道区和JFET区从上表面和前后侧面用栅电极包裹起来,这样在正向导通时扩展的栅电极使器件沟道区与JFET区都形成多数载流子积累层,从而能明显减小导通电阻,提高输出电流。而且由于折叠式栅对JFET区电荷的控制能力,可以避免JFET区因为缩小尺寸带来的穿通问题,从而促进元胞的电荷共享作用,优化了垂直电场分布,提高了器件的击穿电压。同时JFET区尺寸缩小有利于元胞小型化,提高元胞密度,从而能够获得更大的电流。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201410234390.9 | 专利名称: | 一种栅控垂直双扩散金属 氧化物半导体场效应晶体管 |
申请日: | 2014-05-29 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/78搜分类 半导体 场效应晶体管搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |