发明专利 已授权

一种具有雪崩过流能力的GaN功率半导体器件

📄 申请号:CN202411256930.3 📄 发布日:2026/10/20

著录项目信息

申请日
2024-09-09
公开号
CN119300393B
公开日
2025-10-03
申请人
电子科技大学, 电子科技大学广东电子信息工程研究院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

新能源汽车, 储能系统, 数据中心, 工业自动化, 消费电子

摘要

本发明属于功率半导体技术领域,尤其是涉及一种具有雪崩过流能力的新型GaN功率半导体器件。本发明由横向GaN器件与垂直GaN器件结合,在横向GaN结构的沟道下方放置垂直GaN结构。器件正常工作时,栅极施加正向偏压,漏源之间施加正向偏压,器件上方横向GaN结构导通,有电流通过,下方垂直GaN结构反偏,几乎无电流。当器件处于反向耐压状态时,上方横向GaN结构无导通电流,下方垂直GaN结构反偏同样无导通电流。随着漏源之间电压一直增加,下方垂直GaN结构发生雪崩击穿,反向耐压下电流主要通过下方GaN垂直结构从漏极流向源极,从而使本发明的新型GaN功率半导体器件具有雪崩击穿,并且相较于传统PGaN栅GaN HEMT器件耐压有所提升。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
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法律状态时间线

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