实用新型已授权

一种化学气相沉积室清洗装置

Name: 一种化学气相沉积室清洗装置
Brand: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
SKU: 2022216914915
Availability: InStock

📄 申请号：CN202221691491.5 📄 发布日：2026/09/28

著录项目信息

申请日

2022-07-01

公开号

CN218251993U

公开日

2023-01-10

申请人

广州市鸿浩光电半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B08B9_087

IPC 分类号

B08B9_087 , C23C16_44 ,

技术画像

所属领域

半导体制造设备半导体制造设备化学气相沉积设备真空腔体清洗

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 光伏电池制造, 显示面板制造, 真空镀膜

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摘要

本实用新型提供一种化学气相沉积室清洗装置，涉及化学气相沉积室技术领域，包括外壳，所述外壳的顶部固定连通有加剂管，所述加剂管远离外壳的一侧固定连接有塞子。本实用新型，打开加剂管上的塞子，对加剂管中进行加装清洁剂，抓住握把并轻轻用力对压板向握把的方向进行挤压，清洗棉对清洁剂进行吸收，清洗剂从清洗棉中挤出与化学气相沉积室的内壁相接触，清洗棉与化学气相沉积室的内壁进行摩擦清洗，通过对外壳的内部进行加装清洗剂，利用清洗棉对化学气相沉积室的内壁进行清洗，避免工作人员直接徒手操作与清洁剂相接触，提高工作人员手部受到损坏的概率，提高对工作人员的生命安全保护措施。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN218251993U

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种冷壁法CVD沉积设备

当前第 / 件

一种油气储运罐罐体清洁装置

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