发明专利 已授权

一种免喷涂坩埚的制备方法

📄 申请号:CN201911389547.4 📄 发布日:2026/09/16

著录项目信息

申请日
2019-12-30
公开号
CN111040483A
公开日
2020-04-21
申请人
江苏润弛太阳能材料科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

高温熔炼, 光伏硅片生产, 半导体材料制备, 玻璃熔制, 冶金铸造

摘要

本发明提供了一种免喷涂坩埚的制备方法,包括以下步骤:S1:将氮化硅、醇系硅溶胶、陶瓷胶和纯水以一定的质量比配制成氮化硅涂层溶液;其中,所述氮化硅:醇系硅溶胶的质量比为1.5~2:1;所述氮化硅:陶瓷胶质量比为14~10:1;所述氮化硅:水的质量比为1:1~3;S2:将所述氮化硅涂层溶液利用刷涂在坩埚内表面,烘干,然后去除坩埚表面浮尘,放入干燥剂,包装,即得。本发明上述配方制备氮化硅涂层致密性好,采用二次刷涂的制备工艺替代喷涂,使得氮化硅涂层强度更为致密,氧浸入硅锭比例低,氮化硅脱落少,最终达到低硬质点、低氧铸锭的效果,具有操作简便、工业化强的优点。

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN111040483A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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