发明专利已授权

超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法

📄 申请号：CN202110538166.9 📄 发布日：2026/08/27

著录项目信息

申请日

2021-05-18

公开号

CN113211337B

公开日

2023-04-07

申请人

南通大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24D18_00

IPC 分类号

B24D18_00 , B24B1_00 ,

技术画像

所属领域

精密抛光技术精密抛光技术抛光盘制备超硬材料加工

应用场景

半导体衬底加工, 蓝宝石衬底抛光, 碳化硅衬底抛光, 晶圆制造, 精密光学加工

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摘要

本发明涉及一种超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法，属于衬底加工技术。本发明提出了一种新型衬底片抛光用抛光盘制备方法，通过使用多层复合抛光盘，对衬底片进行精密抛光，与传统衬底片抛光工艺相比极大的简化了工艺流程，获得面型较好的衬底抛光片，抛光后的衬底片平均厚度差小，弯曲翘曲度低。本方法工艺简单易操作。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种β晶聚丙烯抗老化土工布及其制备方法

当前第 / 件

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