发明专利已授权

一种基于掩膜遮蔽的深度学习模型去偏方法及装置

📄 申请号：CN202210176362.0 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2022-02-25

公开号

CN115131816B

公开日

2025-07-18

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G06V40_10

IPC 分类号

G06V40_10 , G06V40_16 , G06V10_20 , G06V10_774 , G06V10_82 , G06N3_0464 , G06N3_048 , G06N3_0895 ,

技术画像

所属领域

深度学习模型人工智能算法深度学习模型公平性深度学习模型

应用场景

机器学习模型训练, 算法公平性, 数据偏见消除, 人工智能系统

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摘要

本发明公开了一种基于掩膜遮蔽的深度学习模型去偏方法及装置，首先选取原始数据集，并进行数据预处理；再基于差异影响、人口统计平等、机会平等定义偏见指标函数；然后构建并训练掩膜遮蔽框架模型：再利用构建的掩膜遮蔽框架模型，对预处理后的原始数据集进行数据增强；最后构建深度学习模型，利用数据增强后的数据集，根据定义的偏见指标函数对深度学习模型进行训练，完成去偏。并可利用偏见指标函数对深度学习模型的偏见程度进行检测。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种利用表面活性剂强化油脂环氧化的生产方法

当前第 / 件

一种圆锯床锯切力测试装置

同领域国内专利 · IPC: (G06V40_10)

G06V40_10 G06V40_12 G06V40_13 G06V40_14 G06V40_145 G06V40_16 G06V40_18 G06V40_19 G06V40_20 G06V40_30 G06V40_40 G06V40_50 G06V40_70 覆盖13个领域

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