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发明专利
已授权
一种利用密度函理论筛选电解铜箔添加剂的方法
📄 申请号:CN202110638177.4
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2021-06-08
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C25D1_04
IPC 分类号
C25D1_04
,
C25D3_38
,
G01N33_202
,
技术画像
所属领域
计算化学
计算化学
电解铜箔
材料添加剂筛选
应用场景
电解铜箔制造, 锂离子电池, 电子电路, 电镀添加剂研发, 材料计算模拟
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摘要
本发明属于电解铜箔领域,为解决电解铜箔添加剂能够非常地改善电解铜箔的力学性能甚至电化学性能,而现有技术无法实现电解铜箔添加剂的高效、有效筛选的问题,公开一种利用密度函理论筛选电解铜箔添加剂的方法,通过计算官能团与金属铜以及阴极辊的特定晶面的吸附能,并根据吸附能的绝对值判定金属铜和阴极辊的特定晶面的吸附性,根据吸附性对官能团进行功能性分类;基于所述功能性分类对添加剂进行筛选。本发明的方法1)能够高效地对大量官能团进行筛选;2)对官能团进行效果分类,归纳官能团能够实现相应的技术效果,对官能团进行分类;3)通过官能团分类能够快速筛选添加剂,以实现对电解铜箔的特定性能强化。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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