发明专利已授权

实现定点去除的聚焦离子束四级栅网系统及其方法

📄 申请号：CN201710377872.3 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2017-05-25

公开号

CN107020549B

公开日

2019-03-01

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B13_00 ,

技术画像

所属领域

聚焦离子束技术聚焦离子束技术离子束加工离子光学系统

应用场景

半导体集成电路, 微纳加工, 芯片失效分析, 电路修复, 材料微观分析

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摘要

本发明涉及一种实现定点去除的聚焦离子束四级栅网系统及其方法。其采用三级球面栅网实现了宽束冷阴极离子源离子束的引出、整形及聚焦，可通过栅网球面半径的尺寸来调节离子束焦点的位置；通过改变栅网上小孔分布图形及尺寸大小来调节束斑和束流大小；加速栅电位调节可有效控制离子运动轨迹，减少离子运动过程中的损失和栅网损耗。本发明可实现对加工表面进行定点去除，将推动国内离子束技术的工程化应用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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