发明专利已授权

单元素多层红外高反膜及其制备方法

📄 申请号：CN201910469617.0 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-05-31

公开号

CN110221368B

公开日

2020-11-17

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B5_08

IPC 分类号

G02B5_08 , C23C14_35 , C23C14_06 , C23C14_58 ,

技术画像

所属领域

光学薄膜光学薄膜多层膜结构薄膜制备技术

应用场景

红外光学系统, 激光反射镜, 红外探测器, 光学仪器, 航空航天遥感

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摘要

本发明涉及一种单元素多层红外高反膜及其制备方法，该膜结构由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL)xH/A，其中S为Si基底，H为高折射率的DLC膜，L为低折射率的DLC膜，x为H和L重复镀制的周期数，A为空气。本发明单元素多层红外高反膜有效提高了机械性能、化学稳定性能高、适用范围广；同时，本发明的制备方法简单，易实现，满足大规模工业化生产的要求。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20201117

✅ 授权

20191008

?? 实质审查的生效：

20190910

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：30 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

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