发明专利 已授权

一种离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法和装置

📄 申请号:CN202010128429.4 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-02-28
公开号
CN111257077B
公开日
2023-06-02
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光通信器件, 集成光学, 光学存储, 非线性光学器件, 微纳光子学

摘要

本发明一种离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法和装置。本发明方法为:1)将待加工的铌酸锂样品固定在离子束刻蚀设备的样品台上,调整使离子束的入射角达到工作角度;调整使离子源的中心与工件中心重合;2)将离子束刻蚀设备抽至高真空,真空度低于2×10‑3Pa;通入高纯度99.999%惰性气体氩气或氙气,利用气体流量计控制气体流量,使工作真空保持在2×10‑2 Pa到8×10‑2Pa;3)设置样品台旋转速度、开启离子源,对铌酸锂样品进行离子束辐照,样品台的转速为6~80转/分钟;4)将辐照后的铌酸锂晶体置于高温炉中进行温度80~350℃,时间0.2~3小时的热处理。本发明利用离子轰击在样品表面诱导形成自组织纳米点畴结构,并且可以通过调控离子束参数来控制所获得的纳米畴结构的特征。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
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