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发明专利
已授权
一种锰氧化物电磁调控构建多场耦合人工突触的方法
📄 申请号:CN202110361789.3
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-04-02
公开号
CN113193111B
公开日
2023-04-07
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H10N50_10
IPC 分类号
H10N50_10
,
H10N50_85
,
H10N50_01
,
H10N70_00
,
技术画像
所属领域
人工突触
人工突触
神经形态计算
锰氧化物功能材料
应用场景
类脑芯片, 神经形态计算, 人工智能硬件, 智能传感器, 边缘计算
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摘要
本发明公开了一种锰氧化物电磁调控构建多场耦合人工突触的方法,包括以下步骤:(1)依次将金属、阻变层和钙钛矿锰氧化物沉积于衬底上,形成模拟突触功能的元器件;(2)金属作底电极,钙钛矿锰氧化物生长的圆柱型阵列作顶电极,或者在钙钛矿锰氧化物薄膜上生长一层金属作顶电极;(3)对元器件施加外场,对钙钛矿锰氧化物薄膜的氧离子的迁移和分布进行调控。该方法利用具有优异电磁特性的忆阻异质结,在电致电阻效应的基础上,对阻变单元阵列加以外场调控,获得多场诱导的多重电阻态,再通过外场调控阻变单元中氧离子的迁移,模拟突触的强度分布和可塑性,构建人工突触。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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