发明专利 已授权

一种锰氧化物电磁调控构建多场耦合人工突触的方法

📄 申请号:CN202110361789.3 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-04-02
公开号
CN113193111B
公开日
2023-04-07
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

类脑芯片, 神经形态计算, 人工智能硬件, 智能传感器, 边缘计算

摘要

本发明公开了一种锰氧化物电磁调控构建多场耦合人工突触的方法,包括以下步骤:(1)依次将金属、阻变层和钙钛矿锰氧化物沉积于衬底上,形成模拟突触功能的元器件;(2)金属作底电极,钙钛矿锰氧化物生长的圆柱型阵列作顶电极,或者在钙钛矿锰氧化物薄膜上生长一层金属作顶电极;(3)对元器件施加外场,对钙钛矿锰氧化物薄膜的氧离子的迁移和分布进行调控。该方法利用具有优异电磁特性的忆阻异质结,在电致电阻效应的基础上,对阻变单元阵列加以外场调控,获得多场诱导的多重电阻态,再通过外场调控阻变单元中氧离子的迁移,模拟突触的强度分布和可塑性,构建人工突触。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (H10N50_10)

H10N50_01 H10N50_10 H10N50_80 覆盖3个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:23 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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