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发明专利
已授权
基于磁光材料与石墨烯复合层状周期结构的光学拓扑转换方法及系统
📄 申请号:CN202111648512.5
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-12-30
公开号
CN114296156B
公开日
2023-05-05
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G02B1_00
IPC 分类号
G02B1_00
,
G02F1_00
,
H01Q15_00
,
G16C60_00
,
技术画像
所属领域
石墨烯
光学拓扑结构
磁光材料
光子晶体与超材料
石墨烯
应用场景
光通信, 光信息处理, 光学拓扑器件, 光开关与光路由, 光子集成系统
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摘要
本发明涉及基于磁光材料与石墨烯复合层状周期结构的光学拓扑转换方法及系统,其中,光学拓扑转换方法,包括以下步骤:(1)建立磁光材料与石墨烯复合层状周期结构模型;(2)分析并计算复合层状周期结构的介电张量;(3)计算并确定复合层状周期结构中磁场和电场表达式以及对应边界条件;(4)计算复合层状周期结构的传输矩阵;(5)由Bloch定理导出无限周期结构的色散关系方程;(6)基于色散关系方程,调节外加磁场得到等频面的变化,实现光学拓扑转换。本发明不局限于现有的金属‑电介质传统双曲材料,拓宽了材料选择的范围,选择了色散双曲特性更加明显的材料结构组成方式,更容易能够实现光学拓扑转换,分析新的拓扑结构特性。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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委托待转让
📌 交易状态:
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未申报
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