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本发明涉及兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的制备方法，该器件是将介质薄膜作为红外增透层与石墨烯薄膜组合，构建三明治结构的红外增透薄膜器件；利用石墨烯网栅叠加红外增透薄膜的方法实现兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的制备。对其透明电磁屏蔽性能进行测试分析，本发明薄膜器件保持了红外增透膜的高透过率，同时具备良好的电磁屏蔽性能，能够解决现有装备窗口不能同时满足红外增透和电磁屏蔽的问题，研究成果可广泛的应用于各类装备窗口表面并为新型多功能复合薄膜的应用奠定技术基础。

本申请公开了一种减少反射光的光学膜，包括光学膜本体、保护层、贴膜层、功能层、AG涂层、AR涂层、防护层和基材层。通过功能层的设置，通过复合层的功能层，使其整个光学膜本体在使用时，通过AG涂层与AR涂层的双层抵抗反射，以消除光学膜本体的镜面作用，进而有效了防止了炫目感，提升了整个屏幕的视觉效果。

本发明涉及减反射薄膜技术领域，具体公开了一种新型仿生减反射薄膜结构，包括底座，所述底座顶部设有减反射结构，所述减反射结构由单元微结构阵列构成，所述单元微结构包括主凸结构、环状结构，所述主凸结构位于所述环状结构的中心位置，所述主凸结构底部和环状结构底部均设置在所述底座顶部，所述主凸结构与所述环状结构之间存在间隙。本发明的新型仿生减反射薄膜结构，在光波接触结构的时候在整体结构表面、内部以及环形结构和主凸结构间隙形成较好的渐变光学层，抵御了菲涅尔反射，更好的降低反射率。利用聚二甲基硅氧烷较低的虚部折射率以及结构的亚微米光学特性，新型仿生减反射薄膜结构在3~8um中波波段平均反射率在0.5%以下，减反射效果显著。

本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括：衬底，还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构，锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20～150nm，分布密度为3～20根/um2，若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为：100nm以下:0％～5％，100nm～150nm:50％～60％，150nm～200nm:25％～35％，200nm～260nm:10％～20％。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。