发明专利 已授权

一种压力协助制备高质量钙钛矿薄膜的方法

📄 申请号:CN201910821531.X 📄 发布日:2025/12/10

著录项目信息

申请日
2019-09-02
公开号
CN110635050A
公开日
2019-12-31
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

太阳能电池, 钙钛矿太阳能电池, 光电器件, 光电探测器, 发光二极管

摘要

一种压力协助制备高质量钙钛矿薄膜的方法,属于光电薄膜制备技术领域。首先,在基底上制备钙钛矿前驱体薄膜;然后,将两个带钙钛矿前驱体薄膜的基底相对放置,使钙钛矿前驱体薄膜紧贴在一起,并在顶部薄膜上方施加压力,底部薄膜上加热退火,缓慢生长钙钛矿晶体;退火结束后,取下顶部带钙钛矿薄膜的基底,即可得到所述高质量的底部钙钛矿薄膜。本发明方法制备得到的钙钛矿薄膜具有微米级的晶粒、微秒级的载流子寿命、高的结晶性、少的晶界和低的缺陷态密度,有效提升了钙钛矿薄膜的光电性能及长期稳定性,相应地提升器件性能。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20210806
✅ 授权
20200124
?? 实质审查的生效 :
20191231
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (H01L51_48)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:204 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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