发明专利 已授权

一种具有

📄 申请号:CN201910929813.1 📄 发布日:2026/08/06

著录项目信息

申请日
2019-09-29
申请人
重庆理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

所属领域

应用场景

其他

摘要

本发明公开了一种具有[100]择尤取向的全IMC微焊点的制备方法,其包括如下步骤:步骤一,电镀,提供两块金属基底,所述金属基底的焊接面上沉积有厚度为20±2μm的Co‑P纳米晶薄膜,该Co‑P纳米晶薄膜中P的原子百分比为0.1~10at.%。步骤二,钎焊,将两块金属基底的焊接面对准,以纯Sn作为钎料,利用浸焊或回流焊在两块金属基底的焊接面之间制得Co‑P/Sn/Co‑P微互连结构。步骤三,时效处理,对制得的Co‑P/Sn/Co‑P微互连结构进行时效处理,时效温度为150~230℃,时效时间为20~200h,得到具有[100]择尤取向的全IMC微焊点其工艺流程简单,成本低廉,制得的微焊点是以[100]择尤取向的CoSn3晶粒为主体的全IMC结构,具有比Cu6Sn5全IMC结构韧性更优的力学性能。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20211008
✅ 授权
20200107
?? 实质审查的生效 :
20191213
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:11 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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