摘要
本发明公开了一种具有[100]择尤取向的全IMC微焊点的制备方法,其包括如下步骤:步骤一,电镀,提供两块金属基底,所述金属基底的焊接面上沉积有厚度为20±2μm的Co‑P纳米晶薄膜,该Co‑P纳米晶薄膜中P的原子百分比为0.1~10at.%。步骤二,钎焊,将两块金属基底的焊接面对准,以纯Sn作为钎料,利用浸焊或回流焊在两块金属基底的焊接面之间制得Co‑P/Sn/Co‑P微互连结构。步骤三,时效处理,对制得的Co‑P/Sn/Co‑P微互连结构进行时效处理,时效温度为150~230℃,时效时间为20~200h,得到具有[100]择尤取向的全IMC微焊点其工艺流程简单,成本低廉,制得的微焊点是以[100]择尤取向的CoSn3晶粒为主体的全IMC结构,具有比Cu6Sn5全IMC结构韧性更优的力学性能。